CRF plasma 等離子清洗機

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常壓等離子表面處理機

CRF-APO-1100P

配置專業運動控制平臺,PLC+觸摸屏控制方式,采用精準運動模組,操作簡便;

可選配噴頭數量,滿足客戶多元化需求;

配置專業集塵系統,保證產品品質和設備的整潔、干凈;

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設備詳細數據
       AP等離子設備主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;電連接器表面清洗;通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。

       等離子處理系統技術促進了半導體材料和光學工業生產的快速發展趨勢,并被普遍使用于精密的機器設備、汽車工業、新能源技術、航天航空、污染治理等眾多高新科技行業。等離子處理系統等離子清洗工藝的關鍵是低溫等離子體的運用,低溫等離子體關鍵借助高溫、高頻率、高能等外部條件造成,是一種氣體狀物質,具備中性化、高能、電離氣體。低溫等離子體的動能約為幾十電子伏特,在其中帶有離子、電子、自由基和其它特異活性顆粒,及其紫外線等物質,這種顆粒便于與污染物質分子結構反應在材料外表上,使之分離出來,因而可被清理。因為低溫等離子體比高能射線的能量低得多,因此這個辦法只涉及到原材料的表層,不容易影響到材料的板材特性。

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